格隆汇5月25日｜据塔斯社，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出，该设备可确保生产 350纳米的芯片。什帕克告诉媒体：“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。” 在全球范围内，这种复杂程度的设备由几家主要公司组装，其中最大的是荷兰的ASML公司以及佳能和尼康。目前，台积电和三星利用ASML的EUV光刻技术，已经能够生产出精细至3纳米甚至2纳米的芯片。尽管350纳米的芯片技术相较之下显得落后，但它在汽车、能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。 对于受到美西方严厉制裁的俄罗斯半导体产业而言，这一进展无疑是一则喜讯。这意味着，俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破，有望减少对外部技术的依赖，提升国内产业的自主性和竞争力。

格隆汇5月25日｜据央视，俄罗斯总统信息安全领域国际合作事务特别代表、俄外交部国际信息安全司司长柳克马诺夫当地时间5月25日表示，北约正在俄罗斯周边地区打造网络实验室体系，在爱沙尼亚、立陶宛、芬兰、罗马尼亚等国设立了网络实验室，未来还将在格鲁吉亚和摩尔多瓦建设实验室。他指出，美国早已开始制定同俄罗斯开展混合战争的方法，其中包括利用乌克兰的黑客和“IT军队”，他们在北约相关人员的密切监控下进行网络破坏活动。