格隆汇11月4日｜据中关村在线，俄罗斯正积极研发光刻机，预计最快在2024年取得突破。根据俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak的透露，到2024年将开始生产350nm光刻机，并于2026年启动用于生产130nm制程芯片的设备。 俄罗斯表示，目前只有日本尼康和荷兰ASML两家公司能够生产此类设备，他们希望改变这一局面。虽然俄罗斯已经掌握了使用外国制造设备的65nm技术，但目前仍无法生产光刻机。由于外国公司被禁止向俄罗斯出口现代光刻设备，因此该国正在紧急开发自己的生产设备。 此前圣彼得堡理工大学的研究人员曾开发了一种“国产光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片。这将为解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题提供可能。据悉，其中一种工具的成本约为36.3万元人民币（约合500万卢布），而另一种工具的成本尚未确定。 这款装置由专业软件控制，实现完全自动化，并具有另外一台设备用于形成纳米结构。这种设备也可制作硅膜，例如用于舰载超压传感器。 此外，俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构也透露称，在2028年时，俄罗斯科学院应用物理研究所将可以生产出能够与ASML产品媲美的7纳米芯片的光刻机。