二次创业，是一场没有退路的征程。

南大光电就走在这条路上。

曾经，南大光电光环加身：打破海外垄断、全国MO源市占率第一、实现业绩九连增……可谓是半导体材料领域的新星。

如今，南大光电告别往日荣光，潜心于更艰难的攻关，成为国内首家通过ArF光刻胶验证的企业。

这是否说明南大光电二次创业已然成功？

业绩九连增

半导体材料行业群雄逐鹿，由于环节众多，所以一般行业内的单项冠军多，平台型企业少。

南大光电就是MO源领域的单项冠军，2019年其MO源市占率接近30%，位居全球前二，稳居国内第一。

芯片制造分为薄膜沉积、刻蚀、光刻三大环节，MO源主要用在第一道薄膜沉积环节，通过与氨气等其他气体发生加热反应，在衬底表面生成晶体薄膜。

纯度是衡量MO源质量的关键指标，南大光电的MO源产品纯度≥6N，达到国际先进水平。

不过，市场瞬息万变，MO源主要用来生产LED外延片，随着LED行业告别高速增长时代，MO源业务发展自然受到影响。

2020年，公司前驱体业务（含MO源）销售量虽同比增长9.54%，但收入下滑5.55%，说明公司正通过降价换规模，该业务毛利率同比下滑2.67个百分点也可以印证。

于是，南大光电开始二次创业，电子特气挑起大梁。

电子特气是晶圆制造的第二大原料，成本占比接近14%，其重要性不言而喻。

2019年，南大光电通过收购飞源气体，切入氟类电子特气，这是一种等离子刻蚀和清洗材料，用于芯片制造的第二道环节刻蚀。

2019-2025年，公司电子特气业务营收从1.64亿元攀升至15.36亿元，逐渐成为其第一大业务。但我们也能明显看出电子特气营收增速正不断放缓。

究其原因，并非需求疲软，而是受产能制约。

2024年，公司特气业务产能利用率为98%，2025年为96%，均接近满产，怎么看也不是下游需求疲软造成的营收增长缓慢。

因此，南大光电积极扩产电子特气。2025年10月，公司将原建设项目升级为5400吨电子级三氟化氮和2000吨高纯电子级三氟化氮项目，产线瞄准5.5N高纯度。

三氟化氮是电子特气应用范围最广的品种，约占20%，也是南大光电子公司乌兰察布南大的主营产品。

紧接着2026年1月，南大光电拟以7760万元收购子公司乌兰察布16.17%的股权，将持股比例从74.88%提升至91.05%，进一步提升高端产能掌控权。

得益于二次创业，南大光电从未因单一业务发展瓶颈而影响整体业绩。

2017-2025年，南大光电始终保持营收、净利润的双增长，营收从1.77亿元增至25.85亿元，净利润从0.34亿元增至3.2亿元。

业绩九连增，实属不易。纵观南大光电的发展历程，MO源、电子特气轮番撑起业绩增长的重任。

当MO源业务受下游LED行业价格战影响时，电子特气凭借半导体火热而需求旺盛，南大光电便加速扩产高端电子特气，收拢核心子公司控制权，灵活调整业务重心。

难而正确的路

半导体材料的发展，不是一座孤岛。

在晶圆制造流程中，南大光电已经能够提供薄膜沉积、刻蚀环节的核心原料，下一步自然是剑指光刻。

与彤程新材、上海新阳等大而全的厂商不同，南大光电选择了一条难而正确的路。

2017年，南大光电承接国家02专项半导体材料研发项目，直接跳过国产化率较高的g线、i线光刻胶，攻克更高端、国产化率仅为2%的ArF光刻胶。

在光刻胶图谱中，曝光波长越短，分辨率越高，就可以应用于更先进的芯片制程上。

目前，我国光刻胶厂商能够生产出的最高端光刻胶就是ArF光刻胶，用于130nm-14nm制程芯片制造。

ArF光刻胶也是当前半导体光刻胶中最常用的，ArF和KrF光刻胶合计占据约73%的市场份额。

2020年，南大光电ArF光刻胶在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上验证通过，成为第一只通过验证的国产ArF光刻胶。

2021年，公司ArF光刻胶又在一家逻辑芯片制造企业55nm平台上取得认证和小批量订单。

而且，南大光电的技术路线是干式、浸没式双管齐下，ArF浸没式光刻胶能够用于65nm-14nm晶圆制造，更加先进。

后续，公司建成年产25吨的ArF光刻胶生产线，配备ASML浸没式光刻机，搭建了专用于ArF光刻胶开发的检测平台。

2025年，南大光电新增三款ArF光刻胶通过客户验证并取得订单，销售收入突破两千万元，光刻配套稀释剂收入翻倍，ArF光刻胶产能也提升至50吨/年。

为避免核心材料受制于人，南大光电继续推进原材料自制。

南大光电具备功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶原材料的研发自制能力，实现从原材料到产品的自主化。

公司通常对每种原材料都选择两家及以上的供应商，集中度风险可控。

2025年，南大光电前五名供应商采购额占采购总额的比例仅为13.25%，第一大供应商占比仅为3.81%，十分分散。

公司半导体材料费占营业成本的比重也不高，甚至还在不断减少，从2024年的52.1%降至2025年的49.45%。

拿捏原材料无疑是扩大盈利空间的好方法。近年来，南大光电毛利率维持在40%上下，比彤程新材、晶瑞电材等半导体材料领域的同行更高。

自然，南大光电在研发上的投入也更多，2025年公司研发费用率为8.02%，超过彤程新材（7.03%）、晶瑞电材（5.74%）。

截至2025年末，南大光电及其主要子公司自主开发的专利共计380项，其中发明专利有205项。

总的来说，前驱体材料、电子特气、光刻胶都是半导体晶圆制造过程的必备材料，合计占比超四分之一。

南大光电通过产品的全面布局，深度参与芯片制造全流程。最终，主营业务的良好发展又能为高端光刻胶研发持续输血，形成企业经营的良性循环。

结语

南大光电正在不断打破自我、重塑新生。

从业绩的九连增来看，南大光电的二次创业已获得初步成功。但是光刻胶营收仅为千万级，营收占比在1%左右，还未成气候。

所以，未来光刻胶的产业化速度才是南大光电能够真正定义成功的关键。

以上分析不构成具体投资建议。股市有风险，投资需谨慎。