作者/星空下的烤包子

编辑/菠菜的星空

排版/星空下的乌梅

#半导体 圈去年有一件事，让不少业内人士感到振奋——我国自主研发的第一台#纳米压印光刻机已经正式交付了！璞璘科技自主设计研发的PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备，顺利通过了客户验收，标志着国产高端半导体装备在替代道路上迈出了坚实的一步。

要知道，这台设备的线宽已经做到了小于10nm，而在纳米压印技术领域长期领跑的日本佳能，其主力机型FPA-1200NZ2C也才实现14nm线宽。在光刻机之外，这或许是摆脱受制于人的另一条出路。

资本市场上，#美迪凯（688079）、#利和兴（301013）等企业的股价都迎来了大涨，这个赛道获得了投资者的高度关注。

美迪凯股价变化（来源：百度）

那么，纳米压印这条技术路线，究竟有多少想象空间？哪些玩家已经在悄悄布局？笔者今天就带你来一探究竟。

一、市场热度飙升，"盖章式"造芯片剑指EUV

正所谓"条条大路通罗马"，光刻技术当然也是如此。

纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography，NIL），简单来说，就像"盖章"一样，把电路图案直接压印在晶圆上，省去传统光刻机那套复杂又烧钱的光学系统。原理听起来简单，但这项技术的历史其实比大多数人想象的要长。经过三十年的迭代，如今，纳米压印已经正式从实验室走向了量产线。

纳米压印示意图（来源：公开信息）

纳米压印之所以在今年备受资本关注，离不开佳能、美光、SK海力士等半导体巨头的助推。此前，佳能正式发布了全球首台商业化纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C，紧接着SK海力士就引进了该设备进行3D NAND闪存量产的测试与研发。

美光科技也不甘落后，计划率先支持佳能的纳米印刷技术，进一步降低生产DRAM存储芯片的单层成本。

从最直观的市场数据来看，纳米压印的爆发力已经相当惊人。

据TechNavio的数据显示，2026年全球纳米压印市场规模有望达到33亿美元，2021年至2026年的年复合增长率高达17.74%。如果按照更乐观的机构测算，中国凭借政策支持和产业链协同，增速更是领先全球，年复合增长率维持在28%以上。纳米压印系统设备市场预计到2035年将达到3.58亿美元，年复合增长率保持在9.55%左右。

所谓"投资就是投预期"，纳米压印之所以让投资者趋之若鹜，核心逻辑在于它能成为高端芯片制造的"备选答案"。

毕竟，目前ASML的EUV光刻机单价动辄超过1.5亿美元，而且还要排着队等货。相比之下，纳米压印设备的构造更为简单，售价仅为EUV的10%左右，功耗更是仅需传统光刻机的1/10。在当前的背景下，自主替代的需求日益强烈，而纳米压印因可以绕过ASML的多重专利壁垒和出口管制，自然被寄予厚望。

二、技术优势逐一拆解，国产玩家加速突围

那么，纳米压印到底比传统光刻好在哪里？最核心的优势可以概括为"两低一高"——低成本、低能耗、高分辨率。

第一个优势是分辨率。传统光学光刻受限于衍射极限，纳米压印则是通过物理接触来转移图案，因此不受衍射限制。其分辨率极限主要取决于电子束写入设备的解析能力，理论上可以媲美、甚至超越EUV。

近期，大日本印刷（DNP）已成功研发出电路线宽仅为10nm的纳米压印光刻模板，可实现相当于1.4纳米等级的逻辑半导体图案化，目标在2027年量产。佳能也在持续刷新指标，其FPA-1200NZ2C机型同机台套刻精度m+3σ≤1.8nm，已正式进入HVM（高量产）阶段。

第二个优势是综合成本。

据测算，与EUV光刻工艺相比，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量。而随着AI技术的引入，佳能还在其设备中搭载了AI驱动缺陷检测系统，将漏检率从3%下降至0.7%，质检效率提升了80倍，极大解决了纳米压印以往在大规模量产时的良率控制难题。

当然，纳米压印并非毫无短板。它面临的挑战也很突出：模板寿命短、缺陷率偏高、压印速度慢。目前，纳米压印设备单次压印合格率尚不足80%，远低于EUV光刻机在成熟产线中95%以上的稳定表现，技术上还有比较大的进步空间。

尽管存在短板，但中国玩家已经在加速追赶。除了前面提到的璞璘科技实现国内首台纳米压印光刻机交付，#苏大维格（300331）在微纳三维光刻、纳米压印等方面已形成显著特色和优势，成为微纳制造领域少数具有核心竞争力的企业。#晶方科技（603005）作为传感器领域封测龙头，已控股公司多年布局纳米压印技术，2025年实现净利润3.7亿元，同比增长46.23%。

#利和兴（301013）也在深交所互动平台披露，其二代全自动纳米压印设备的研发项目已于2024年完成，技术主要运用于快速精密对位、非接触精确测厚等自动化生产流程。

利和兴净利润变化情况（来源：上市公司年报）

三、前景广阔但道阻且长，存储与AR成最佳切入点

综合来看，纳米压印的前景主要聚焦在两个领域：存储芯片和AR/VR光学元件。

从存储芯片来看，3D NAND闪存和DRAM是需要大量曝光步骤但对缺陷容忍度相对更高的器件，纳米压印的高性价比正好契合这一需求。

以DRAM层图案为例，纳米压印可实现更精细图案，其成本仅为浸润式光刻的20%，成为较佳的解决方案。再加上美光、铠侠、SK海力士等巨头均已带头布局，纳米压印在存储领域的渗透率有望在未来两年内快速提升。

从光学器件来看，AR眼镜的光波导是当前最成熟的应用场景之一。纳米压印是目前衍射光波导的主要加工手段，被视为微纳加工领域有望大规模应用的解决方案。荷兰的魔飞光电正在通过创新的卷对板纳米压印技术，将压印周期缩短至2分钟以内，良率已提升至93%，正加速进入AR光波导的量产阶段。

我国是消费电子制造的大国，一旦AR眼镜实现消费级大规模出货，受益最大的无疑是在纳米压印产业链上提前布局的国内公司。

当然，投资者也需保持清醒，纳米压印的产业化仍然面临模板寿命、大面积均匀性和标准化程度不足等痛点。笔者认为，一条专门的生产线建立并不容易，当下纳米压印与光刻技术远未到"你死我活"的地步，两者在较长时间内将处于互补共存的状态。

注：本文不构成任何投资建议。股市有风险，入市需谨慎。没有买卖就没有伤害。