11:09
国家知识产权局:2026年将加快推动《集成电路布图设计保护条例》修改
格隆汇1月23日|在今天国务院新闻办公室举行的新闻发布会上,国家知识产权局相关负责人表示,2026年将加快推动商标法新一轮全面修改和《集成电路布图设计保护条例》修改。加强地理标志专门立法研究论证。完善人工智能等新领域新业态知识产权保护制度。不断健全数据知识产权保护规则,进一步深化相关试点。
相关主题/热点

2026-01-23524.3k

商务、渠道、广告合作/招聘立即咨询

相关文章

苹果换帅自救

万连山 · 3小时前

cover_pic

2026年光学互连行业重点企业市场占有率及规模增长分析报告

贝哲斯咨询 · 4小时前

cover_pic

全球半导体模板印刷机行业发展现状及趋势分析报告

环洋市场咨询 Global Info Research · 5小时前

cover_pic

紫光国微2025年报深度解析:净利润上涨22% 特种芯片扛起半壁江山

全球财说 · 5小时前

cover_pic

旋涂电介质行业国内市场分布与未来趋势判断分析报告(2026)

贝哲斯咨询 · 5小时前

cover_pic

洞察氮化镓单片微波集成电路市场增长趋势:2032年规模将达3321百万美元

QYResearch信息咨询 · 5小时前

cover_pic