全球视野, 下注中国
打开APP
苏大维格(300331.SZ)：积极研发高制程掩膜的相关光刻技术
2025-06-25 14:37
格隆汇6月25日丨苏大维格(300331.SZ)在互动平台表示，在光刻领域，公司现阶段主要拓展直写光刻、纳米压印光刻和投影扫描光刻技术和产品在光电子、光通信和泛半导体等领域的应用，并积极研发高制程掩膜的相关光刻技术。
相关股票
SZ 苏大维格
格隆汇声明：文中观点均来自原作者，不代表格隆汇观点及立场。特别提醒，投资决策需建立在独立思考之上，本文内容仅供参考，不作为实际操作建议，交易风险自担。
15.8k商务、渠道、广告合作/招聘立即咨询