格隆汇9月3日｜全球半导体产业重要供应商德国蔡司(Zeiss)高管称，中国在尖端芯片制造设备的研发方面落后约15年，并指中国的进步很难量化。

蔡司半导体部门负责人Frank Rohmund在彭博电视台表示，中国需要15年才能研发出EUV(极紫外光)光刻机是“合理的假设”。他称，中国数十年来一直在研发这类技术。谈到近期有关中国取得技术进展的报道时，他说，这其实并不令人意外，现在需要观察的是，这些设备的实际能力究竟如何。Frank Rohmund称，“我们仍然遥遥领先。”蔡司是EUV设备所使用光学系统的独家供应商。

在Frank Rohmund作出上述估计之前，瑞银分析师指出，中国距离开发出国产EUV技术可能至少还有10年。

7月底，The Information称，中国厂商开始生产浸没式深紫外(DUV)光刻机。