格隆汇8月9日｜据韩联社援引韩国法律界星期天消息，首尔高等法院近期对涉嫌违反《产业技术保护法》、《防止不正当竞争和保护商业秘密》、背信罪的SK海力士金姓前职员判处有期徒刑一年零六个月，维持一审刑量。

金姓前职员涉嫌在供职于SK海力士中国法人的2022年泄露公司图形传感器（CMOS image sensor）相关尖端技术和商业秘密，并将其恶意利用。

经查发现，金姓前职员作案前曾收到华为旗下海思技术有限公司跳槽提议。他为编写简历而违反公司规定，从公司文档管理系统打印和拍摄商业秘密资料，并将其外泄。

二审法院表示，被告人泄露的商业秘密是公司多年投入大量资源而取得的成果，若从轻处罚，会削弱公司的技术研发动力，且使得海外竞争公司以人才引进为借口轻易夺取韩国企业刻苦钻研的技术。