格隆汇9月6日｜荷兰政府表示，基于国家安全考虑，将开始要求光刻机生产商阿斯麦(ASML)用于制造电脑晶片的另外两种深紫外光(DUV)光刻工具获得出口许可证。

根据将于9月7日生效的新规定，ASML现在需要向荷兰政府而不是美国政府申请出口许可证，才能向中国出口其旧型号的深紫外浸润式光刻系统(TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV，用于制作38纳米低端芯片)。

ASML在声明中表示，由于这是技术性调整，预计不会对公司2024年的财务前景，或在2022年11月投资者日传达的长期情景产生任何影响。